Фотопленка для фотовывода

Фототехнические пленки AGFA просты в использовании, отличаются устойчивостью к вариациям в режимах обработки и имеют широкий ассортимент, в котором представлены пленки практически для всех фотонаборных автоматов.
Спецификация Agfa Alliance Recording

Серия Применение
НN Пленка для экспонирования гелий-неоновым лазером и красным лазерным диодом (630-670 нм), подложка 100 мкм
HNm Пленка для экспонирования гелий-неоновым лазером и красным лазерным диодом (630-670 нм), подложка 100 мкм, имеет матовый слой
HN7 Пленка серии HN для экспонирования в устройствах с гелий-неоновым лазером или светодиодами красного спектра излучения (633-760 нм), подложка 180 мкм
HN7m  Пленка серии HN для экспонирования в устройствах с гелий-неоновым лазером или светодиодами красного спектра излучения (633-760 нм), подложка 180 мкм, имеет матовый слой
HS Высокоскоростная пленка с повышенной чувствительностью для гелий-неонового лазера (633 нм) или светодиода красного спкетра излучения (633-670 нм), подложка 100 мкм
IR Пленка для экспонирования инфракрасным лазером (780 нм), подложка 100 мкм
IRm Пленка для экспонирования инфракрасным лазером (780 нм), подложка 100 мкм, имеет матовый слой
IR7 Пленка для экспонирования инфракрасным лазером (780 нм), подложка 180 мкм
IR7m Пленка для экспонирования инфракрасным лазером (780 нм), подложка 180 мкм, имеет матовый слой
LD Пленка для экспонирования фотодиодом с длиной волны 660 нм, подложка 100 мкм
LDm Пленка для экспонирования фотодиодом с длиной волны 660 нм, подложка 100 мкм, имеет матовый слой
ImPower Plus Серия высококонтрастных пленок с максимальной плотностью. Рекомендована для флексографии. Выпускаются различных серий в зависимости от источника экспонирования: I-Fr, I-Frm, I-Fr7, I-Fr7m. Для обработки желателен специальный проявитель AGFA ACD.